在Mini-LED背光技術(shù)從高端顯示走向消費(fèi)級(jí)市場(chǎng)的進(jìn)程中，導(dǎo)光板作為實(shí)現(xiàn)微米級(jí)光路調(diào)控的核心元件，正面臨前所未有的制造挑戰(zhàn)。當(dāng)傳統(tǒng)工藝難以突破光學(xué)散射損失、粘接界面失效、鍍膜脫落等瓶頸時(shí)，等離子清洗機(jī)以分子級(jí)表面重構(gòu)技術(shù)，成為破解導(dǎo)光板量產(chǎn)良率難題的關(guān)鍵突破口。其通過等離子體與材料表面的量子級(jí)交互，不僅實(shí)現(xiàn)了光學(xué)性能的躍升，更在制造工藝上開創(chuàng)了全新的納米精度時(shí)代。
導(dǎo)光板制造的工藝革新
鍍膜前預(yù)處理
在導(dǎo)光板網(wǎng)點(diǎn)鍍AR增透膜、AG防眩光膜前，等離子清洗可提升膜層附著力300%以上。例如，在12.9英寸Mini-LED背光導(dǎo)光板中，經(jīng)處理的網(wǎng)點(diǎn)區(qū)域與鍍膜層結(jié)合力從0.3N/mm2提升至1.2N/mm2，通過85℃/85%RH 500小時(shí)濕熱測(cè)試的良率從70%提升至98%。粘接界面強(qiáng)化
在導(dǎo)光板與反射膜、擴(kuò)散膜的粘接中，等離子處理使接觸角從40°降至5°，膠水潤(rùn)濕面積擴(kuò)大4倍。例如，某Mini-LED背光模組采用等離子處理后，跌落測(cè)試（1.5m高度）的脫層率從18%降至0.5%，背光均勻性提升20%。光學(xué)性能優(yōu)化
通過控制等離子體功率和處理時(shí)間，可實(shí)現(xiàn)導(dǎo)光板表面粗糙度的納米級(jí)調(diào)控（Ra 0.1-1nm）。在AR眼鏡導(dǎo)光板處理中，將表面散射損失從12%降低至3.5%，同時(shí)保持透光率>92%，實(shí)現(xiàn)虛像亮度提升3倍。
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